Вакуумная камера

Вакуумная камера из нержавеющей электрополированной стали D формы  вакуумной магнетронной распылительной установки ZENIT-70.

Вакуумная камера из нержавеющей электрополированной стали.
• Размер камеры (ШхВ): 80х70 см, 80х110 см
• D-образная форма в сечении
• Плоская дверь
• На двери 1 вакуумное окно диаметром 10 см для камеры 80х70 см
• На двери 2 вакуумных окна диаметром 10 см для камеры 80х110 см
• Рама и панели под вакуумной камерой изготовлены из нержавеющей стали

Вверху вакуумной камеры расположен фланец под ввод вращения, на котором расположен подложкодержатель: столик, барабан или планетарный механизм.
В днище  вакуумной камеры предусмотрены отверстия диаметром 33 мм и 25.4 мм для монтажа электрофизических источников: магнетронов распыления, источника ионов.
Также в камере есть различные дополнительные порты CF под подсоединение дополнительного оборудования. Для подсоединения вакуумного затвора и ТМН используется фланец ConFlat8” (CF160) или ISO250, расположенный на задней стенке камеры. Больший фланец ISO250 используется для подключения ТМН большей производительности (2000 л/с), чтобы обеспечить глубину вакуума, необходимую для работы ионного источика ионов для предварительной чистки напыляемой подложки.
Опционно: Водоохлаждаемая камера. Данная опция обязательна, если в камере планируется нагрев более 80С, или же планируется длительный технологический процесс с нагревом.
Опционно: Вакуумная камера с фланцем CF160 (CF8”) или большего размера на боковой правой стенке вакуумной камеры.

Вакуумная система

Безмасляная откачная система состоит из:
• ТМН со скоростью откачки 600 л/с или 2000 л/с
• Опционно: 3-х позиционный дросселирующий затвор с фланцем CF160 или ISO250.
• Пластинчато-роторный насос производительностью 20 или 40 куб.м/час (опционно - сухой спиральный насос производительностью 12 куб.м/час или сухой винтовой насос производительностью 75 куб.м/час).
• Широкодиапазонный вакуумметр на базе датчиков Пирани и датчика с нитью накала на диапазон 1 атм - 1х10^-9 торр.

Безмасляный турбомолекулярный вакуумный насос с керамическими подшипниками на консистентной смазке обеспечит получение безмасляного высокого вакуума. ТМН подсоединен к задней стенке вакуумной камеры, что позволяет избежать случайного попадания в насос каких-либо упавших деталей, кусочков образцов и пр. По согласованию с заказчиком устанавливаются проверенные временем и устанавливаемые в вакуумных системах ведущих западных производителей ТМН производства KYKY (Китай) или ТМН для работы с высокими газовыми нагрузками производства Agilent (Varian, США).
Трехпозиционный затвор для регулирования откачки при напылений покрытий методом магнетронного напыления значительно уменьшает расход технологических газов благодаря дроселлированию откачки ТМН. Вакуумная откачная система обеспечивает предельный вакуум в камере не хуже 10^-6 торр.
Контроль вакуума обеспечивается широкодиапазонным вакуумметром (на базе датчика Пирани и датчика с нитью накаливания) на диапазон 1 атм – 1х10^-9 торр. В вакуумметре установлены 2 нити накаливания, при сгорании одной автоматически начинает работать вторая. В случае перегорания обоих нитей накаливания нужно заменить всего лишь «сенсорную» часть вакуумметра, которая составляет прим. 30% от стоимости вакуумметра.

Система электрофизических устройств
В камере установлены несколько магнетронов (обычно от 2 до 4), которые могут быть подключены блокам питания постоянного тока, импульсному униполярному блоку питания, импульсному биполярному блоку питания, импульсному блоку питания для HIPIMS (сильноточное импульсное магнетронное напыление) или к ВЧ генератору. Количество магнетронов и блоков питания обговаривается с заказчиком, исходя из задачи заказчика.

ВЧ генератор позволяет распылять металлы и диэлектрические материалы, но высокочастотный генератор дороже, чем блок питания постоянного тока. Блок питания постоянного тока позволяет распылять только металлы. Мощность блоков питания выбирается исходя из установленных магнетронов (значение на выбор мощности оказывают: прямое или косвенное охлаждение мишени магнетрона распыления, размер магнетрона). Все магнетроны имеют пневматические заслонки.

Система контроля толщины покрытия

Контроль толщины покрытий осуществляется кварцевыми датчиками. Система контроля обсуждается с заказчиком. Может быть установлен один кварцевый датчик для калибровки процесса напыления с последующим напылением по времени. Или же напротив каждого магнетрона может быть установлен кварцевый датчик, при этом с целью продления срока службы датчика он может иметь пневматическую заслонку и работать в режиме периодического открывания заслонки (например, 1 сек открыт, 10 сек закрыт).

Система вращения подложкодержателя

Система вращения подложкодержателя обговаривается с заказчиком, исходя из задачи.
Ввод вращения может быть водоохлаждаемый или без водяного охлаждения. В своих системах мы устанавливаем проверенные временем вводы вращения с уплотнением по магнитной жидкости, производство Rigaku (США)
• Регулируемая скорость вращения на 2-20 об/мин
• Блок управления и регулирования скорости вращения (возможность встраивания в АСУ ТП).
• Опционно: планетарный механизм из нержавеющей стали, находящийся вверху
• Опционно: планетарный механизм из нержавеющей стали в виде барабана

Система нагрева

Система нагрева состоит из блока нагревателей типа ТЭН (если необходимо обеспечить нагрев во время напыления) из нержавеющей стали, или же из кварцевых ламп (в этом случае нагрев происходит быстрее, но нагрев происходит только до процесса напыления), блока управления и контроля нагревом.
Осуществляется нагрев до 200° или 300° и поддержание заданного значения в технологическом процессе по обратной связи через термопару. При этом, если необходимо получить нагрев до более высоких температур, нагрев в вакуумной камере необходимо обеспечивать с помощью кварцевых ламп. Использование кварцевых ламп подразумевает более частую чистку (или замену) защитных стекол, установленных на кварцевой лампе. Сами кварцевые лампы также требуют периодической замены ввиду их более частого перегорания.

Система подачи технологических газов

Система построена на базе регулятора расхода подачи газа, работающего по вязкостному принципу (не тепловой). Это обеспечивает высокую надежность работы, не инерционность (что важно для обеспечения требуемого потока газа при работе магнетрона). Регуляторы устанавливаются со встроенной калибровочной таблицей на 30 наиболее распространенных технологических газов и смесей газов (в том числе Ar, N₂, O₂).
В вакуумной магнетронной напылительной системе ZENIT устанавливаются 2 или 3 РРГ на диапазон 100 (опционно 200) см³. РРГ подсоединены к вакуумной камере с помощью трубок из нержавеющей стали с элекптрополировкой внутренних поверхностей, для подсоединения используются только соединения стандартов Swagelock или VCR.
 

Система управления

В установке предусмотрены все системы блокировок по воде и вакууму для обеспечения штатного функционирования компонентов и оборудования в целом. Управление осуществляется на базе системы управления магнетронной напылительной установкой с выводом всех параметров системы на цветную панель.

В дополнение, следует отметить, что компания РОБВАК является официальным поставщиком нескольких компаний, оборудование которых установлено в вакуумной магнетронной напылительной установке ZENIT, поэтому, приобретая оборудование у нас, Вы получаете не только надежное и качественное техническое решение, но и полный комплект гарантийных обязательств по наладке, обслуживанию и своевременному реагированию сертифицированных специалистов на возможные нештатные ситуации с оборудованием.

Вакуумная магнетронная напылительная установка ZENIT всегда есть на нашей площадке во Фрязино, поэтому обращайтесь - мы можем продемонстрировать её в работе, провести тестовое напыление, обсудить ваши задачи, совместно выработать спецификацию, которая наиболее полно по функционалу и оптимально по цене решит стоящие перед вами задачи.